大脑皮质并不是平滑的层状结构，而含有许多内折或裂隙，称为脑沟。脑沟间皮质形成的隆起称为脑回。一些脑沟和脑回有特定的名称和功能。大脑半球分为四叶，即额叶、顶叶、颞叶和枕叶(图1)。

图1 大脑皮质：额叶、顶叶、颞叶和枕叶

(A)左半球外侧面观。(B)右半球的正中矢状面观。

额叶位于大脑前部，向后延伸到中央沟。颞叶位于额叶的侧下方，两者由一个很深的脑沟分隔，称为Sylvian裂或外侧裂(“裂”有时用来指深的脑沟)。顶叶以中央沟为前界，但从侧面来看，它与颞叶和枕叶无明确的界限(见图1A)。从大脑内侧面观察时，很容易发现分隔顶叶和枕叶的顶枕沟(见图1B)。

除了这4个主要的脑叶，另一个大脑皮质区埋于外侧裂的底部，称为岛叶。岛叶前部由额叶的边缘覆盖，后部由顶叶的边缘覆盖，分别称为额叶岛盖和顶叶岛盖(“岛盖”形似盖子)。边缘皮质原先被称为“边缘叶”，但此名称已不再沿用。

两侧大脑半球中间由半球间裂（或称大脑纵裂、大脑纵沟)分隔(图2D)。一个大的C形的白质带，即胼胝体(意为“质硬的体”)，将两侧半球的同源区域和非同源区域联结起来(见图1B)。

尽管存在某些变异，但大脑半球表面的沟回形成了特定的相对一致的形态。现在我们将简要回顾大脑半球主要的脑沟、脑回和其他结构(见图2)。

图2 大脑皮质表面的细致结构

(A)左半球外侧面观。(B)右半球内侧面观。(C)底面观。(D)顶面观。

在半球外侧面(见图2A) ，额叶后方以中央沟为界。位于中央沟前方的脑沟称为中央前沟。外侧额叶的其余部分被额上沟和额下沟分为额上回、额中回和额下回。

同样，外侧颞叶被颞上沟和颞下沟分为颞上回、颞中回和颞下回。顶叶最前面的部分是中央后回，位于中央沟后方。顶内沟将其分为顶上小叶和顶下小叶。顶下小叶由包绕外侧沟末端的缘上回和包绕颞上沟末端的角回组成。

从半球内侧面(见图2B)可以看到胼胝体，它由吻、膝、体和压部组成。扣带回(“扣带”即腰带)环绕胼胝体，从前面的终板旁回直至后面的峡部。扣带沟有一边缘支上行至大脑上表面，因为中央沟正位于其前面，因此边缘支是一个重要的标志。

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